ワコム研究所Space
English
日本語
HOME information company mocvd deposition recruiting access inquiry
HOME > MOCVD
 
 
MOCVD
  MOCVDとは Metal Organic Chemical Vapor Deposition の頭文字をとったもので、
有機金属化学気相成長法とも呼ばれています
 
WACOM MOCVD SYSTEM
   
wmcs2200  ワコムMOCVD装置は、今まで困難とされていたCVD法によるPZT(チタン酸ジルコン酸鉛)、SBT(タンタル酸ビスマスストロンチウム)などの強誘電体成膜の問題点を克服し、FeRAM-LSIの大量生産を可能にした画期的な強誘電体薄膜CVD装置です。
本製品により次世代FeRAM-LSI生産技術の飛躍的な発展が期待されます。また、電極用金属、PZT・SBTを始め様々な組成の金属酸化物薄膜を形成することが可能なため、FeRAM以外の分野へも幅広く応用が可能です
アプリケーション
  ワコムMOCVD装置で成膜した各種薄膜データ
 
 
     
 
 
 
Copyright © 2006-2009 WACOM R&D Corporation All Rights Reserved.