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              system  使用装置など process  標準工程
 

ワコム研究所では、自社内に設置した次世代FeRAM用MOCVD装置、高品質メタル薄膜用MOCVD装置の開発設備を使用して、
有償で受託成膜加工を行っております。

従来、スパッタリング法やイオンプレーティング法、電気メッキ法が主流となっている有償受託成膜加工と比較し、薄膜化ならびに
高品質な膜を得られることが特徴です。更に、弊社のMOCVD装置では、特殊な溶液原料を用いることで、従来の塩素系・フッ素系
ガスを使用した高温および危険なプロセスを採用せず、低温で安全、高品質な金属酸化膜、金属膜を成膜することが可能です。

また、0.18μmプロセス以降の微細化工程向けシステム開発のために構築され、管理されたクリーン環境下で成膜加工を行施した
サンプルは、大学、研究所といった研究機関を始め、次世代の金属酸化膜、金属膜などの半導体膜の試作・開発評価用としても
最適です。

弊社の有償成膜がお客様にもたらすメリット
  例えば、次のような場合、弊社がお客様を強力にサポートいたします
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left icon 実験装置はあるが、スケジュールが間に合わない right
icon 自社内のCVD装置の用途が限定され、使用できない
icon CVD装置の購入するほどのサンプル数量を必要としない
icon 各種CVD膜の基礎データを取得したい
icon 特殊金属材質をCVD装置で成膜したい
icon CVD装置を購入前に、実験データを取得したい
icon 特殊な材料組成比の選択をしたい
icon 試作開発を外部委託で行いたい
 
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